X-선 필름 처리 시 암실 처리 방법은 무엇인가요?

필름 현상은 잠상(섹션 7.2 참조)이 눈에 보이는 이미지로 변환되는 과정입니다. 에멀젼의 결정(잠상을 형성하는 은 흔적의 운반체)이 선택적 환원에 의해 금속성 은으로 변환되어 눈에 보이는 영상이 만들어집니다. 변환 후 장기적으로 보관하기 위해서는 현상 절차를 주의하여 수행해야 합니다. 수동 현상은 고품질의 결과를 위해 주의 깊게 실시해야 하는 까다로운 과정입니다. X-선 필름은 효율성 개선 및 일관된 품질을 위해 자동으로 처리하는 경우가 더 많습니다. 그래도 수동 과정을 많이 사용합니다. 따라서 이 장에서는 현상 과정을 잘 이해할 수 있도록 수동 처리를 설명합니다.

X-선 필름 처리 시 암실은 어떻게 설정해야 하나요?

암실은 실질적인 이유로 자연 방사선이 닿지 않는 곳에 있어도 노출이 가능한 장소에 최대한 가까워야 합니다. 암실은 완전히 빛을 차단해야 하기 때문에, 입구는 보통 회전문이나 미로 형태의 문으로 두 개를 사용하며 하나씩 차례로 배치되어야 합니다(그림 1-10 참조).

미로 형태의 문은 넓은 공간을 차지하기는 하지만 빛을 차단하는 데에는 가장 좋은 배열이라고 알려져 있습니다. 통로의 벽면은 광택 없는 검정색으로 칠하고 눈높이에서 벽을 따라 이어지는 약 10cm 폭의 흰색 안내선을 그리는 것을 권장합니다. 암실 내부의 벽은 밝은 색으로 칠하는 것이 좋습니다. 밝은 색의 벽은 소량의 빛을 반사하여 청결하게 유지하기 쉽습니다.

X-선 필름은 일반 주황색-빨간색(R1) 또는 녹색(D7) 암실 조명에서 가장 잘 처리됩니다. 필름의 감도와 현상 과정 기간에 따라 필름과 암실 조명 사이의 거리를 고려해야 합니다.

암실 조명의 '조명 안전성'은 사전에 노출된 필름(밀도 2)의 반을 세로로 덮고 5분 동안 방치한 후 평소와 같이 처리하여 시험할 수 있습니다. 밀도 차이는 0.1보다 크지 않아야 합니다.

또 다른 방법은 워크스테이션에 노출되지 않은 필름을 놓고 일부를 판지로 덮은 후 점차적으로 제거하여 여러 노출을 만드는 것입니다. 일반적인 방법으로 필름을 현상하면 조명의 '안전성'과 허용 가능한 최대 밀도 차이 0.1을 초과하기 전에 필름이 노출될 수 있는 시간을 확인할 수 있습니다.